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商品基本信息

商品名称: IC697MDL653
商品编号: IC697MDL653 
商品型号: IC697MDL653 
积分点数: 0 点
市面价格: 766 元
现售价格: 66 元
库存量: 不限 个
浏览人次: 386
发 布 者: gw0001
发布日期: 2017-06-26 08:41:23
商品介绍
IC697MDL653
IC697MDL653微机电系统(MEMS)、纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备领先供应商EV集团(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT,旨针对大容量先进封装应用推出的全新自动掩模对准系统。IQ Aligner NT光刻机配备了高强度和高均匀度曝光镜头、全新晶圆处理硬件、支持全局多点对准的全 200 毫米和全300毫米晶圆覆盖、以及优化的工具软件。与EVG此前推出的IQ Aligner光刻机相比,产出率和对准精度都提升了两倍。这套系统最大程度地满足了对后端光刻最严苛的要求,成本相较竞争者降低30%。

该款IQ Aligner光刻机支持多种先进封装类型,包括晶圆级芯片尺寸封装(WLCSP)、扇出晶圆级封装

(FOWLP)、三维集成电路/硅穿孔(TSV)、2.5D中介层以及倒装芯片。

最新光刻技术要求

高级半导体封装技术正在不断发展演变,包括增加器件功能和降低每单元功能成本,以便支持全新的器件类型。为促进光刻技术的发展,需满足对先进封装市场的独特要求:

· 严密的对准精度

· 管理调整圆晶片的翘曲和解决晶片和掩模版图尺寸不匹配实现优化覆盖的能力

· 对后端加工过程中发现的厚层抗蚀剂和介电层进行充分曝光的能力

· 为解决由于设备缩放而导致的收缩凸起和互连所需的更高分辨率

· 满足以上要求的同时,业界需要一个具有高成本效益和生产率的光刻工具平台

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EVG IQ Aligner NT——全新自动掩模对准系统,产出率和对准精度提升两倍,为 EVG 光刻解决方案带来了全新应用

IC697MDL653
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